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高溫氣氛管式爐價格可滿足于不同工藝實驗而特殊制造，適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的密退火與微晶化、晶體的密退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業(yè)理想的實驗和生產(chǎn)設備。

更新日期：2025-03-15

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￥7890

管式燒結爐技術參數(shù) 爐體結構 采用冷軋板，經(jīng)過數(shù)控等設備機床密加工而成，外表面經(jīng)過高溫處理，的風冷雙層爐體結構，爐殼之間裝有風機，可以快速升降溫，了良好的工作環(huán)境。

更新日期：2025-03-15

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￥8588

管式爐廠家-管式爐以電加熱，采用雙層殼體結構,智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫度高；雙層爐殼間風冷系統(tǒng)，有效降低爐殼表面溫度；結合我司真空、氮氣系統(tǒng)、混氣系統(tǒng)、真空通氮系統(tǒng)。（選配）

更新日期：2025-03-15

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￥8500

智能管式爐以硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和智能化程序控溫系統(tǒng)，可控硅控制，控溫度高；雙層爐殼間配有風冷系統(tǒng)，有效降低爐殼表面溫度；結合我司標準真空、混氣系統(tǒng)，可抽真空通氣氛。

更新日期：2025-03-15

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￥8500

迷你型真空氣氛管式爐采用雙層殼體結構，爐膛材料采用高純氧化鋁，殼體兩邊安裝有鋁制散熱器使得法蘭溫度小于80℃，內爐膛表面涂有1750℃進口氧化鋁涂層材料提高反射率及爐膛潔凈度。 適用范圍：主要應用于院校實驗室、工礦企業(yè)實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛

更新日期：2025-03-15

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1200℃微型開啟式管式爐AFD-1200X-S是小型管式爐，工作限制溫度為1200℃，功率限制為1200W，可配置直徑為1“或2“的高純石英爐管。爐管兩端配置對不銹鋼法蘭，設有機械壓力表、不銹鋼截止閥和寶塔嘴接頭，允許樣品在真空和氣體保護下進行燒結。

更新日期：2025-03-15

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￥6800